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  1. 應用

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    半導體行業用于配制硅片清洗劑

    過氧化氫等

    主要用于去除硅晶圓表層微粒及金屬離子

    過氧化氫、鹽酸、硫酸、硝酸等

    線路板生產中使用的無機清洗劑

    鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸、氫氟酸、冰醋酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、無水碳酸鈉等

    線路板生產中使用的蝕刻劑

    氟化氫、氟化銨、氟化氫銨、六偏磷酸鈉等

    線路板生產中使用的有機清洗劑

    甲醇、無水乙醇、丙酮、異丙醇、甲苯、二甲苯、石油醚、乙酸乙酯、草酸二乙酯等

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